赛默飞氢氧化钾淋洗液罐EGC 500 KOH

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产品名称: 赛默飞氢氧化钾淋洗液罐EGC 500 KOH

产品型号: 075778

产品展商: 戴安Dionex

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简单介绍

赛默飞氢氧化钾淋洗液罐EGC 500 KOH 利用淋洗液生成功能，防止基线漂移、提高灵敏度、改善分离度并确保一致的峰积分。有各种 Thermo Scientific™ Dionex™ EGC 淋洗液发生罐可供生成氢氧化物、碳酸盐、碳酸氢盐和甲磺酸淋洗液。淋洗液自动生成消除了传统的 IC 淋洗液制备方法中对于酸和碱的处理需求，并且允许色谱分析工作人员运行全范围的梯度和等度分离，且效率比手工制备淋洗液更高。

赛默飞氢氧化钾淋洗液罐EGC 500 KOH 的详细介绍

赛默飞氢氧化钾淋洗液罐EGC 500 KOH

适用于	Integrion、ICS-5000+、ICS-6000 HPIC 系统
类型	氢氧化钾淋洗液发生罐
流速	0.01-3.00 mL/min.
压力	*大值：34.5 MPa (5000 psi)
溶剂	EGC 500 KOH：25% 甲醇，EGC 500 MSA：无有机溶剂
浓缩	0.1 至 100 mM
描述	Dionex EGC 500 KOH 氢氧化钾淋洗液发生罐
Unit Size	Each

戴安离子淋洗液发生器资料

淋洗液发生器部件及配件

淋洗液
阴离子分析用淋洗液
碳酸钠/碳酸氢钠：手动配制

063965	PROD,RGNT,EL,AS22
064161	PROD,RGNT,EL,AS23

氢氧化钾：在线产生
需要淋洗液罐和捕获柱
阳离子分析用淋洗液
甲磺酸：手动或在线产生
在线产生需要淋洗液罐和捕获柱
糖和氨基酸分析用淋洗液
氢氧化钠和醋酸钠

我们的发生灌可以电解产生高纯度氢氧化物、碳酸盐和甲磺酸淋洗液，适用于等度和梯度运行。在 Thermo Scientific Dionex Reagent-Free 离子色谱系统（RFIC）中，只需加水即可取得出色结果。
淋洗液发生灌
无需手动制备淋洗液。淋洗液发生灌可以电解产生高纯度氢氧化物、碳酸盐和甲磺酸淋洗液，适用于 RFIC 系统上的等度和梯度运行。您只需加水即可。
自动生产高纯度洗脱液
与 Thermo Scientific Dionex ICS-5000+ HPIC、ICS-6000 和 ICS-2100 系统配合使用
用于等度或梯度分离
Dionex EGC 400 纯化柱仅用于在双 EGC 模式下供 Dionex ICS-6000 HPIC 系统执行复杂碳水化合物分析
获得出色的批次间可重现性
免除了对酸和碱的处理减少泵维护并延长使用寿命；泵只会遇到去离子水
使用通常用于毛细管柱标准孔的各种流速
与可承受高达 5000 psi 压力（34.5 MPa，** Dionex EGC 毛细管型和 EGC 500）的高压离子色谱系统配合使用

产品特点
Dionex EGC III 和 EGC 500 纯化柱在 1.0 mL/min 下支持的浓度范围为 0.1–100 mM (0.1–80 mM EGC III LiOH)
Dionex KOH、NaOH 和 LiOH 纯化柱支持*高浓度达 25% 的甲醇
Dionex K2CO3 和 MSA 纯化柱与溶剂不兼容
Dionex EGC（毛细管）纯化柱在 0.010 mL/min 下与 1-30 μL/min (0.001-0.030 mL/min) 的流速范围内支持的浓度范围为 0.1–200 mM
Dionex EGC-KOH（毛细管）纯化柱支持*高浓度为 25% 的甲醇
Dionex EGC-MSA（毛细管）纯化柱与溶剂不兼容

适用于复杂碳水化合物的双 EGC 模式
通过在双洗脱液发生器纯化柱（双 EGC）模式下运行 Dionex ICS-6000 HPIC 系统来自动产生洗脱液梯度，以分析复杂碳水化合物。这种新选择将甲磺酸 (MSA) EGC 400 纯化柱和氢氧化钾 (KOH) EGC 400 纯化柱互相串联使用，可产生重现性和准确性极高的 KOH/KMSA 洗脱液梯度来分析复杂碳水化合物（如低聚糖）。

描述	适用于	部件号
Dionex EGC III KOH 氢氧化钾淋洗液发生罐	传统 RFIC-EG 系统（高达 3,000 psi）	074532
Dionex EGC 500 K2CO3 碳酸钾淋洗液发生罐	Dionex ICS-5000+、ICS-6000 HPIC 系统	088453
Dionex EGC III NaOH 氢氧化钠淋洗液发生罐	传统 RFIC-EG 系统（高达 3,000 psi）	074533
Dionex EGC III LiOH 氢氧化锂淋洗液发生罐	传统 RFIC-EG 系统（*高耐压达 3,000 psi）	074534
Dionex EGC III MSA 淋洗液发生罐	传统 RFIC-EG 系统耐压高达 3,000 psi	074535
Dionex EGC-KOH 氢氧化钾淋洗液发生罐，毛细管型	ICS-4000 毛细管 HPIC 系统和 Dionex ICS-5000+ 毛细管系统	072076
Dionex EGC-MSA 甲磺酸淋洗液发生罐，毛细管型	ICS-4000 毛细管 HPIC 系统和 Dionex ICS-5000+ 毛细管系统	072077
Dionex EGC 500 KOH 氢氧化钾淋洗液发生罐	Integrion、ICS-5000+、ICS-6000 HPIC 系统	075778
Dionex EGC 500 MSA 甲磺酸淋洗液发生罐	Integrion、ICS-5000+、ICS-6000 HPIC 系统	075779
Dionex EGC 400 KOH 氢氧化钾淋洗液发生罐	Dionex ICS-6000 HPIC 标准孔/微孔或混合型系统可采用双 EGC 模式	302766

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